ASML的最新一代EUV光刻生产效率提高了18％

在当地铸造公司兴起之时，设备进口问题引起了广泛关注。领先的光刻机ASML最近表示，从荷兰向中国出口DUV光刻机不需要许可证。
“根据现行法规，ASML可以继续从荷兰向中国客户运送DUV光刻系统，而无需获得美国出口许可证；对于直接从美国运送到受法规影响的客户的系统或零件，ASML需要获得许可。”领先的光刻机ASML的总裁兼首席执行官Peter Wennink在最新的季度财务报告发布会上解释了中芯国际等中国客户的出货情况。
ASML最近宣布了光刻产品的最新发展。其中，TWINSCANNXE：3600D作为目前正在开发的最先进的光刻系统，终于确定了规格。
具体而言，30mJ / cm2的曝光速度达到每小时160个晶圆，这使生产率提高了18％，并将机器的套准精度提高到1.1nm。 3600D计划于2021年中期交付。
客户仍然需要等待一段时间，价格不应该低于现金旧模型的1.2亿美元。目前，ASML投入生产的最先进的光刻机是3400C，但主要的运输模型是3400B。
在参数方面，3400B的雕刻精度为2nm，曝光速度为20mJ / cm2，每小时可曝光125个晶片。此外，ASML还透露3400B也已在第三季度完成了软件升级。
新的DUV光刻机TWINSCANNXT：2050i已在第三季度进行了验证，并于第四季度初正式发货。据报道，在截至9月30日的一个季度中，ASML共收到60台光刻机，并出货了10台EUV光刻机。
ASML没有提到最先进的EUV光刻机对中国的出口政策。电子发烧友对本文进行了全面报道，其内容引用了ASML和CnBeta。
请指出以上转载来源。